MRI檢查技術(shù)--頭面部
2018-06-06 20:27
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來源：中華放射學(xué)雜志
作者：南*雪
責(zé)任編輯：南山雪
[導(dǎo)讀]
（一） 眼部MRI技術(shù)要點及要求
1. 線圈： 頭線圈、 頭頸聯(lián)合線圈和小型環(huán)形線圈。
2.**： 仰臥位， 頭先進。線圈中心及定位中心對準鼻根部。
3. 方位及序列：
平掃序列包括：
（1）以軸面為主， 掃描 T2WI、 fs-T2WI、 三維 T2WI 水成像、 T1WI、 三維 T1WI序列。掃描基線平行于視神經(jīng)長軸并經(jīng)過視神經(jīng)， 范圍包含眼眶上、 下壁。
（2）斜矢狀面fs-T2WI， 掃描基線平行于受檢側(cè)視神經(jīng)長軸， 范圍包含受檢側(cè)眼眶內(nèi)外側(cè)壁。
（3）冠狀面 T2WI、 T1WI，掃描基線垂直于顱腦矢狀面， 范圍包含眼瞼前緣至蝶鞍后床突。
增強掃描序列： 軸面、 斜矢狀面及冠狀面 fs-T1WI， 也可采用二維或三維快速梯度回波fs-T1WI 序列行動態(tài)增強掃描， 以便獲得更豐富的血液動力學(xué)信息。
4. 技術(shù)參數(shù)： 以薄層、 高分辨率掃描為原則。
二 維 序 列 層 厚 3.0 mm，層 間 隔 <0.5 mm， FOV（180～200）mm×（180～200）mm； 三維序列層厚0.3～1.0 mm，空 間 分 辨 率 像 素 值 ≤1.0 mm × 1.0mm。按照常規(guī)劑量和流率靜脈注射釓對比劑。
5.圖像要求：
（1）清晰顯示兩側(cè)眼眶、 視神經(jīng)、眼球、 眼外肌、 眶周結(jié)構(gòu)等；（2） 無明顯運動偽影， 磁敏感偽影及血管搏動偽影不影響眼眶觀察和診斷。
（二） 耳部MRI技術(shù)要點及要求
1.線圈： 頭線圈、 頭頸聯(lián)合線圈、 3 in（1 in=2.54cm） 環(huán)形線圈。
2.**： 仰臥位， 頭先進。線圈中心及定位中心對準眉間。
3. 方位及序列：
平掃序列包括：
（1）以軸面為主， 掃描 T2WI、 T1WI、 三維 T2WI水成像、 三維平衡式穩(wěn)態(tài)自由進動水成像序列。掃描基線平行于AC-PC 連線。
（2）斜矢狀面 T2WI 序列： 掃描基線垂直于受檢側(cè)面聽神經(jīng)干長軸， 范圍包含受檢側(cè)顳巖骨外側(cè)緣至面聽神經(jīng)干延髓端。
增強掃描序列： 軸面、 矢狀面及冠狀面fs-T1WI、 三維fs-T1WI。
4.技術(shù)參數(shù)： 二維序列層厚 2.0～3.0 mm， 層間隔≤層厚×10%， 三維序列層厚 0.3～1.0 mm， FOV（200～240）mm×（200～240）mm， 空間分辨率像素值<1.0 mm×1.0 mm。按照常規(guī)劑量和流率靜脈注射釓對比劑。
5. 圖像要求：
（1）兩側(cè)對稱顯示乳突、 面聽神經(jīng)、 耳蝸、 聽小骨等結(jié)構(gòu)；
（2） 無明顯運動偽影， 磁敏感偽影、 血管搏動偽影不影響觀察內(nèi)聽道；
（3） 三維T2WI水成像序列需提供半規(guī)管等內(nèi)耳結(jié)構(gòu)的 MIP和MPR后處理圖像。
（三） 鼻及鼻竇MRI技術(shù)要點及要求
1.線圈： 頭線圈、 頭頸聯(lián)合線圈。
2.**： 仰臥位， 頭先進。線圈中心及定位中心對準鼻尖與鼻根連線中點。
3.方位及序列：
平掃序列： 至少在同一方位上掃描 T2WI、 fs-T2WI 和 T1WI， 并加掃其他 1 個或 2 個方位的 T2WI、 T1WI。掃描基線： 軸面： 平行于硬腭，范圍上至前顱底窩上緣， 下至軟腭下緣； 矢狀面： 平行于頜面部正中矢狀線， 范圍包含兩側(cè)上頜竇外側(cè)壁； 冠狀面或斜冠狀面： 平行于頜面部冠狀線或平行于鼻尖與鼻根連線的冠狀線， 范圍包含鼻尖軟組織前緣至鼻咽后壁。
增強掃描序列： 軸面、 矢狀面、冠狀面 （或斜冠狀面） fs-T1WI均需掃描。
4.技術(shù)參數(shù)： 二維序列層厚 4.0～5.0 mm， 層間隔≤0.5 mm， FOV（200～240）mm× （200～240）mm，矩陣≥256×224。按照常規(guī)劑量和流率靜脈注射釓對比劑。
5.圖像要求：
（1）顯示鼻腔和副鼻竇骨性及軟組織結(jié)構(gòu)， 兩側(cè)對稱顯示；
（2）無明顯運動偽影， 磁敏感偽影、 血管搏動偽影不影響鼻及鼻竇的觀察。
（四） 鼻咽部、 口咽部MRI技術(shù)要點及要求
1.線圈： 頭線圈、 頭頸聯(lián)合線圈。
2.**： 仰臥位， 頭先進。線圈中心及定位中心對準硬腭水平。
3. 方位及序列： 軸面、 矢狀面、 冠狀面均需掃描。
平掃序列： 以軸面為主， 掃描 T2WI、 fs-T2WI 和T1WI 序列， 并加掃矢狀面和（或）冠狀面 T2WI、T1WI。掃描基線： 軸面： 平行于硬腭， 鼻咽部掃描范圍從前顱底窩至喉腔上界， 口咽部從硬腭至舌骨；矢狀面： 平行于頜面部正中矢狀線， 范圍包含兩側(cè)乳突外緣； 冠狀面： 平行于鼻咽部后壁， 范圍從鼻尖后到第二頸椎體后緣。觀察鼻咽部腫瘤頸部淋巴結(jié)轉(zhuǎn)移情況， 掃描范圍覆蓋鎖骨上窩和胸鎖乳突肌后方。
增強掃描序列： 軸面、 矢狀面、 冠狀面fs-T1WI均需掃描。
4.技術(shù)參數(shù)： 二維序列層厚 4.0～5.0 mm， 層間隔 ≤ 層 厚 × 20% ， FOV（200～240）mm ×（200～240）mm， 矩陣≥256×224。按照常規(guī)劑量和流率靜脈注射釓對比劑。
5.圖像要求：
（1）顯示鼻咽部、 口咽腔、 喉腔上部、 上頜竇、 篩竇、 額竇、 蝶竇、 頸部兩側(cè)淋巴結(jié)等結(jié)構(gòu)， 兩側(cè)結(jié)構(gòu)對稱顯示；
（2）無明顯運動偽影， 磁敏感偽影、 血管搏動偽影不影響影像的觀察。
（五） 頜面部MRI技術(shù)要點及要求
1.線圈： 頭線圈、 頭頸聯(lián)合線圈。
2.**： 仰臥位， 頭先進。線圈中心及定位中心對準硬腭水平。
3.方位及序列：
平掃序列： 至少在同一個方位（以軸面為主） 掃描 T2WI、 fs-T2WI和 T1WI， 并加掃其他 1個或 2個方位的 T2WI、 T1WI。掃描基線： 軸面：平行于硬腭， 掃描范圍上至前額， 下至下頜軟組織下緣； 矢狀面： 平行于頜面部正中矢狀線， 范圍包含頜面部兩側(cè)外緣； 冠狀面： 垂直于頜面部正中矢狀線， 范圍從鼻尖到下頜骨后緣。
增強掃描序列： 軸面、 矢狀面、 冠狀面fs-T1WI均需掃描。
4.技術(shù)參數(shù)： 層厚 5.0～6.0 mm， 層間隔≤層厚×10%， FOV（200～240）mm×（200～240）mm， 矩陣≥256×224。按照常規(guī)劑量和流率靜脈注射釓對比劑。
5.圖像要求：
（1）顯示頜面部軟組織及骨性結(jié)構(gòu)， 兩側(cè)對稱顯示；
（2）無明顯運動偽影， 磁敏感偽影及血管搏動偽影不影響頜面部結(jié)構(gòu)觀察。
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